近几年，我国半导体产业发展迅猛，在各个领域取得了技术突破。比如龙芯中科已经研发出龙芯3A6000芯片，这款芯片的整体性能接近英特尔的第10代酷睿芯片。比如哈工大团队研发的超高速精密激光干涉仪，这款设备能为28nm光刻机的研制提供技术支撑……

而在这些技术突破中，华为当属首屈一指的存在。从5nm的麒麟9000量产上市，到14nm的EDA工具研发成功，华为引领了我国半导体技术的突破。

很遗憾，由于华为等众多民族企业在半导体技术的突破，老美害怕这些企业威胁到它的统治地位。为此，老美联合一众小弟打压华为等一众国内企业。

(资料图片)

经过老美的六轮打压，华为自研的麒麟芯片无人代工、先进的EDA工具也无法使用，采购的手机芯片也不支持5G网络……。

值得庆幸的是华为技术积累深厚、资金流充裕、业务范围广泛、消费群体庞大，因此华为在老美的打压下并没有倒下。相反华为2022年的营收超过6300多亿元，仍然是我国民营企业的NO1。

当然了，华为只是老美打压企业中的一个，华为综合实力强劲，自然可以抵御老美的打压，但其他企业面临老美的打压就显得后继乏力了。

据悉，在老美打压的众多企业中，中芯国际应该是受牵连最严重的企业之一。早在2018年，中芯国际从荷兰ASML采购了一台EUV光刻机。由于老美老美从中作梗，ASML限制了这种顶尖的EUV光刻机无法发货。彼时，ASML的中高端DUV光刻机还可以正常发货。

而在2023年2月份，老美拉着日本、荷兰组成“封锁联盟”，以此限制中企获得中高端DUV光刻机。

为什么老美要拉着日本和荷兰这两个国家呢？据悉，荷兰ASML是全球唯一一家能够生产EVU光刻机的厂商，也是少数能够生产先进DUV光刻机的厂商。而日本的尼康和佳能在14nm—45nm的DUV光刻机市场也是执牛耳的存在。

也就说我国企业想要获得先进的DUV设备，那么尼康、佳能、ASML这三家企业是无法绕开的。

而在前不久，日本正式发布了23项半导体设备出口管制，这份出口限制也包括了14nm工艺的光刻机。这份出口管制将在7月23日，也就说这个月的23号正式施行。届时，其他企业从尼康、佳能获得中高端光刻机设备的难度就大幅度增加。

虽然日本相关部门对外表态:出口管制不针对第三方，所有企业只要获得许可就能获得中高端光刻机。但以日本之前的所作所为，我国企业大概率不会获得14nm的中高端光刻机的出口许可。

而在6月底，荷兰相关部门也正式发布了半导体设备出口禁令。在该禁令下，荷兰光刻机厂商将对14nm——45nm的中高端DUV设备施行出口管制。和日本的出口管制一样，荷兰的出口管制也不针对第三方，但相关企业想要获得14nm——45nm的DUV光刻机仍需要获得荷兰相关部门的许可。

该项出口管制将在9月1号正式施行，ASML也明确表示将会在这个日期实施14nm——45nm的DUV设备出口管制。

由于ASML有限制EUV光刻机出口的“前科”，因此这次中企想要获得14nm——45nm的DUV光刻机可谓极为艰难。为此，有外媒表示:没有ASML的先进光刻机，中企的芯片外援全断了。

写在最后

古语有云:靠人不如靠己。通过这次日本、荷兰的光刻机出口管制禁令可知，把获得光刻机的希望放在西方国家其不可取的。唯有脚踏实地的研发，广聚贤才的管理模式、舍得花钱的决心、低调务实的工作作风，我们才能实现光刻机的自主研发生产。

可喜的是上海微电子自研的28nm光刻机已经进入验证阶段，如果进展顺利的话，这款28nm光刻机将在这几年发布。届时，我国将会实现28nm光刻机的突破，实现28nm芯片的自主化。

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